Hony Engineering Plastics Co.,Ltd.
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반도체 전자 장치

반도체 전자 장치


통합 회로 칩의 생산에는 다음과 같은 여러 가혹한 환경에서 작동 할 수있는 고도로 전문화 된 장비가 필요합니다.

● 진공 환경에서의 혈장;

● 고온;

● 매우 거친 액체와의 접촉;

● 많은 부식성 화학 물질에 대한 노출.

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이점


● 전 세계 어디에서나 사용할 수있는 자료의 정확한 재생산

● 광범위한 자재 선택, 엔지니어링 지원 및 테스트 기능

● Simulation System의 NPI 응용 프로그램 개발 지원 가공 기능

● 습식 공정 도구를 위해 설계된 가장 광범위한 자료 포트폴리오

● TechTron® PPS를 포함한 세계 최고의 CMP 링 재료 제조업체 (CMP 애플리케이션을위한 글로벌 표준)

● 에칭, CVD 및 이온 임플란트와 같은 건식 공정 도구에 사용되는 재료 비용 절감 및 성능 향상


일반적인 재료

아세탈

반 정적, 정적 소산 및 전도성 플라스틱

CPVC

fep

플루오 폴리머 튜브

FR 폴리 프로필렌

ectfe

PVDF

나일론

몰래 엿보다

애완 동물

PFA

폴리이 미드 테이프

PC

폴리 프로필렌

PSU

pps

ptfe

페이

에폭시

페놀면 옷

듀로 스톤

FR4/G10

베이클라이트


재료 강도

Ø 정적 소산 등급

Ø 화학 저항

Ø 베어링 및 마모 응용 분야에서 낮은 입자 생성

Ø 아웃소싱 특성이 낮습니다

Ø 고순도 화학 물질에 배치하면 추출 가능성이 낮습니다.

Ø 고온 기능

Ø 차원 안정성


일반적인 응용 프로그램

베어링과 부싱

화학 탱크

전기 절연체

유연한 튜브

경비원과 방패

연마 고리

스핀 척

정적 제어 응용 프로그램

테스트 소켓

밸브 구성 요소

웨이퍼 처리 부품

젖은 벤치 및 워크 스테이션

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제품 및 응용 프로그램

제품 응용 프로그램
TechTron®PPS CMP 링
Semitron®CMP XL20
에칭 및 CVD 반응 챔버
Ketron®1000 엿보기
웨이퍼 전송
ertalyte®pet-p
습식 공정 구조
Duratron®Pai
습식 공정 부품, HP 화학 및 물 저장 용기 라이너


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