반도체의 슈퍼 엔지니어링 플라스틱 (엿보기/PPS)

통신 장비, 소비자 전자 장치, 자동차 등과 같은 다양한 분야의 칩에 대한 수요가 증가함에 따라 글로벌 칩 부족 및 가격 인상 파가 점점 더 강렬 해지고 있습니다. 칩 제조 공정은 반도체 제조와 관련하여 매우 복잡하며 실리콘 웨이퍼, 전자 특수 가스, 포토 마스크, 포토 레지스트, 대상, 화학 물질 및 기타 재료 및 관련 장비에 더 많은 관심을 기울입니다. 보이지 않는 수호자 - 플라스틱.

반도체 제조에 직면 한 가장 큰 과제는 오염의 제어, 특히 반도체 기술의 개발과 함께, 전자 구성 요소가 점점 더 복잡해지고, 불순물의 내성이 낮아지고, 먼지가없는 청소, 높은 가혹한 조건의 생산 온도, 고 부식성 화학 물질.

반도체 공정에서 플라스틱의 역할은 주로 포장 및 운송, 각 처리 단계를 연결하고 오염 및 손상을 방지하고 오염 제어 최적화 및 중요한 반도체 프로세스의 수율을 향상시키는 것입니다. 사용되는 플라스틱 재료에는 Peek, PPS, PP, ABS, PVC, PBT, PC, Fluoroplastics, PAI, COP 등이 있으며, 반도체 기술의 지속적인 개발로 인해 재료의 성능 요구 사항도 점점 높아지고 있습니다.

다음은 반도체 제조에서 특수 엔지니어링 플라스틱 엿보기/PPS의 적용에 중점을 둡니다.

1, CMP 고정 링

화학 기계적 분쇄 (CMP)는 웨이퍼 생산 공정의 핵심 공정 기술이며, CMP 고정 링은 그라인딩 공정에서 웨이퍼, 웨이퍼를 고정하기 위해 분쇄 공정에서 사용되며, 재료의 선택은 내마모성, 차원 안정성, 화학적 부식 저항성, 화학적 부식 저항성, 화학적 부식 저항성을 가져야합니다. 크리스탈 웨이퍼 / 웨이퍼 표면 긁힘, 오염을 피하기 위해 처리하기 쉽습니다.

CMP 고정 링은 연삭 공정에서 웨이퍼를 고정하는 데 사용되며, 선택한 재료는 일반적으로 표준 PPS 생산을 사용하여 웨이퍼 표면 긁힘, 오염 등을 피해야합니다.

PEEK는 PPS 링과 비교하여 높은 차원 안정성, 가공 쉽고, 가공 쉽고, 좋은 기계적 특성, 우수한 화학적 특성 및 내마모성을 가지고 있으며, PEEK CMP 고정 링으로 만들어진 PPS 링과 비교할 때 마마 내마모성이 높아지고 서비스 수명이 두 배가되므로 다운 타임이 줄어들고 다운 타임이 줄어 듭니다. 웨이퍼 생산 능력 향상.

재료 : 엿보기, pps

2. 웨이퍼 캐리어

이름에서 알 수 있듯이 웨이퍼 캐리어는 웨이퍼, 웨이퍼 캐리어 박스, 웨이퍼 운송 상자, 크리스탈 보트 등을로드하는 데 사용됩니다. 전체 생산 공정의 운송 상자에 저장된 웨이퍼는 높은 시간의 비율, 웨이퍼 박스 자체, 재료, 품질 및 청결은 웨이퍼 품질에 더 큰 영향을 미칠 수 있습니다.

웨이퍼 캐리어는 일반적으로 온도 저항, 우수한 기계적 특성, 치수 안정성뿐만 아니라 견고한, 반 정적, 낮은 아웃가스가, 강수량, 재활용 가능한 재료, 웨이퍼 운반체에서 사용되는 다른 프로세스는 선택된 재료가 다양합니다.

Peek은 일반적으로 사용되는 항성 엿보기를 사용하여 일반 전송 공정을 만드는 데 사용될 수 있으며, Peek는 많은 우수한 특성, 내마모성, 화학 저항, 차원 안정성, 정전기 및 아웃소싱을 제공하여 입자 오염을 방지하고 웨이퍼 취급의 신뢰성을 향상시키는 데 도움이됩니다. , 저장 및 전송.

재료에는 Peek, PFA, PP, PES, PC, PEI, COP 등이 포함되며, 일반적으로 정적 특성으로 변형됩니다.

3. 조명 마스크 상자

Photomask는 그래픽 마스터, 석영 유리에 사용되는 칩 제조 포토 리소그래피 공정으로, 크롬 금속 음영으로 코팅 된 쿼츠 유리, 노출 원리 사용, 실리콘 웨이퍼에 대한 광로 마스크 투영을 통한 광원을 사용하여 특정을 보여줄 수 있습니다. 무늬. 포토 마스크에 부착 된 먼지 또는 긁힘은 투사 이미지의 품질이 악화 될 것이므로 포토 마스크의 오염을 피하고 포토 마스크의 청결에 영향을 줄 수있는 충돌 또는 마찰에 의해 생성 된 입자를 피해야합니다.

마스크의 안개, 마찰 또는 변위로 인한 손상을 피하기 위해 마스크 박스는 일반적으로 반 정적, 낮은 외부 및 견고한 재료로 만들어집니다.

높은 경도, 매우 낮은 입자 생성, 높은 청결성, 항 정적, 화학적, 내마모성, 가수 분해 저항성, 매우 우수한 유전성 및 우수한 방사선 저항 및 기타 특성, 생산, 전송 및 포토 마스크 처리 및 기타 특성. 포토 마스크, 포토 마스크 시트는 환경에서 낮은 외형 및 낮은 이온 오염에 저장 될 수 있습니다.

재료 : 반 정전기 엿보기, 반 정적 PC 등

4. 도구

웨이퍼 클램프, 진공 완드 등과 같은 웨이퍼 또는 실리콘 웨이퍼 등을 클램프하는 데 사용되는 도구는 웨이퍼 클램핑 웨이퍼가 웨이퍼 표면에 긁히지 않으면 웨이퍼 표면에 흠집이 생성되어 웨이퍼 청정의 표면을 보장합니다.

Peek은 고온 저항, 마모 저항성, 좋은 차원 안정성, 낮은 아웃가스 성 및 낮은 흡습성을 특징으로합니다. 웨이퍼와 실리콘 웨이퍼가 엿봄 웨이퍼 클램프로 고정 될 때, 웨이퍼와 실리콘 웨이퍼의 표면에는 긁힘이 없으며, 마찰로 인해 웨이퍼와 실리콘 웨이퍼에 잔류 물이 생성되지 않아 웨이퍼 and silicon wafers의 표면 청정을 향상시킵니다.

자료 : 엿보기

5. 세분화기 패키지 테스트 소켓

테스트 소켓은 장치의 테스트 기기에 전기적으로 연결된 각 반도체 구성 요소의 직접 회로이며, 다양한 테스트 소켓은 다양한 마이크로 칩으로 지정된 통합 회로 설계자를 테스트하는 데 사용됩니다. 테스트 소켓에 사용되는 재료는 넓은 온도 범위, 기계적 강도, 낮은 버 형성, 내구성 및 처리 용이성에 걸쳐 좋은 치수 안정성의 요구 사항을 충족해야합니다.

재료 : Peek, PPS, Pai, PI, PEI