Semitron® MPR 1000 PAI

Semitron® MPR 1000 형태는 혈장 챔버에서 우수한 내열성과 낮은 비율의 아웃가스 및 침식을 가지고 있습니다. 낮은 이온 함량을 갖는이 고순도 물질은 종종 반도체 및 전자 제품 산업에서 에칭, CVD 및 이온 임플란트 하위 분할 내의 진공 챔버 응용 분야에 선택됩니다.

Semitron® MPR 1000은 일부 경우 오존의 폴리이 미드보다 최대 25 배까지 전통적인 재료에 비해 수명이 증가한 것을 보여줍니다. 수명으로 인해 석영, 세라믹, 폴리이 미드 및 기타 엔지니어링 플라스틱과 같은 진공 챔버 응용 분야에 사용되는 전통적인 재료에 대해 지정됩니다.

재료 특성

낮은 이온 함량 및 낮은 아웃가스 화

우수한 내열 저항

혈장 챔버에서 최소화 된 침식 속도

최적의 칩 저항, 내구성 및 가공성

까다로운 챔버 응용 프로그램을 위해 특별히 설계되었습니다

응용 분야 : 플라즈마 기반 진공 챔버, 클램프 링, 트렌치 링, 나사, 핀, 샤워 헤드, 포커스 링, 절연체, 진공 패드

Semitron ®에 대해

Semitron® Semiconductor Grade 제품은 설계자와 사용자가 장치 제조 장비의 성능을 최적화 할 수 있도록 개발되었습니다. 장치 제조 외에도 이러한 재료 중 다수는 마모 저항, 화학적 저항 및 정전기 관리가 필요한 특정 환경에 이상적입니다.

두 그룹의 제품이 개발되었습니다. 하나는 장치 처리 및 테스트 응용 프로그램에 적합하며 차세대 CMP, 플라즈마 및 에칭 챔버 응용 프로그램에는 1 초입니다.

Semitron 등급은 시트,로드 (일부 제제) 및 가공 부품으로 제공됩니다.